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美國稱ASML的關鍵晶片裝置已在中國,ASML對此表示異議

美國稱ASML的關鍵晶片裝置已在中國,ASML對此表示異議

2026-09-08
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美國稱ASML的關鍵晶片裝置已在中國,ASML對此表示異議

彭博社報道,美國商務部長霍華德·盧特尼克最近警告阿斯麥(ASML)的高管,稱該公司的一臺極紫外(EUV)光刻機可能已抵達中國。這些系統是目前唯一能夠製造最先進半導體圖案的裝置,若其出現在中國,將違反自特朗普第一屆政府以來執行的出口限制。

美國官員聲稱擁有證據,證明阿斯麥向中國運送了與EUV相關的元件和運輸裝置,但他們拒絕向彭博社或阿斯麥透露這些細節。該公司堅持認為,中國境內不存在此類機器,也從未存在過。商務部未就其是否掌握中國境記憶體在EUV系統的證據一事回應詢問。

雖然這看似與半導體行業之外的人無關,但這至關重要。阿斯麥是一家荷蘭公司,在普通大眾中鮮為人知,但在全球AI基礎設施建設中佔據主導地位,這與英偉達(Nvidia)和主要雲提供商不同。它製造著唯一能夠進行EUV光刻的裝置,而EUV光刻是印製定義前沿晶片的微觀電路圖案所必需的工藝。

臺積電(TSMC)生產的所有高階處理器都依賴阿斯麥的工具,臺積電是為英偉達和蘋果提供晶片的代工廠。這些系統耗時二十年、耗資數十億美元才開發出來,目前沒有任何替代供應商。這一壟斷地位使阿斯麥成為歐洲最有價值的上市公司,市值約為7000億美元,這得益於對AI晶片需求的激增。

中國境內可能存在EUV機器的意義重大,因為這將代表美國旨在防止先進AI能力加強北京軍事和工業部門的出口管制措施遭遇重大失敗。

六週前,在這些報道之前,我與阿斯麥執行長克里斯托夫·富凱(Christophe Fouquet)就此事進行了交談。

富凱表示,阿斯麥追蹤其發出的每一臺機器,確認它們要麼由受監控的客戶使用,要麼已被拆解並退回。他解釋說,該公司多年前建立了一個內部安全防火牆,將有權訪問EUV技術的員工與無權訪問的員工分開。中國員工被有意排除在此訪問許可權之外。他強調,製造EUV機器之所以可能,是因為80%的技術源自數十年的先前的知識,而剩下的20%——即產生EUV光本身——又花了20年才解決。他的論點是,如果沒有先前的擁有,逆向工程是不可能的,而且中國從未有過這樣的機器。

商業邏輯也表明,阿斯麥不會冒著失去出口許可證的風險來秘密供應中國客戶。該公司向中國出售較舊的深紫外(DUV)工具,這種做法已維持了十年。富凱稱這是戰略決策,旨在保持代差,從而在不創造未來競爭對手的情況下開展業務。阿斯麥預計,其2026年收入的約20%將來自這些獲准的銷售。冒著EUV禁令的風險去進行一筆非法銷售,將危及這一收入及其作為歐洲最有價值的工業壟斷地位。

這些觀點並不能徹底駁斥指控。政府尚未公佈其證據,在相關資訊公開之前,應暫緩做出判斷。

在盧特尼克的領導下,商務部去年晚些時候同意向xLight投資高達1.5億美元,這是一家開發下一代光源技術的初創公司,可能挑戰阿斯麥的EUV壟斷地位。xLight的執行長此前將該公司描述為阿斯麥的未來合作伙伴,旨在建立可與現有系統整合而非取代它們的硬體。當我在五月份就此問題與富凱交談時,他禮貌但持懷疑態度,表明阿斯麥並不認為xLight的技術對其領導地位構成威脅。

目前尚不清楚盧特尼克對阿斯麥的壓力是否與這項投資有關。兩者之間沒有公開聯絡,這兩個問題可能無關。然而,值得審視的是,一位聯邦官員在審查一家壟斷企業的同時,其機構又資助了一家旨在顛覆該壟斷企業核心技術的初創公司,這是否存在利益衝突。

xLight並非光刻領域的唯一競爭對手。彼得·蒂爾(Peter Thiel)與特朗普的政治圈子有著長期的聯絡,他支援Substrate,這是一家追求與EUV相抗衡的技術、且具有比xLight更直接競爭野心的初創公司。

正如彭博社報道的那樣,國會目前提出的一項兩黨法案提議禁止所有阿斯麥深紫外(DUV)裝置運往中國,這些裝置約佔該公司預計2026年收入的20%。該法案已於四月透過了一個關鍵委員會,特朗普政府尚未就此採取官方立場。

上圖:阿斯麥執行長克里斯托夫·富凱

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