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Les États-Unis affirment que l’équipement clé de puces d’ASML se trouve en Chine, ASML conteste

Les États-Unis affirment que l’équipement clé de puces d’ASML se trouve en Chine, ASML conteste

8 septembre 2026
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Les États-Unis affirment que l’équipement clé de puces d’ASML se trouve en Chine, ASML conteste

Bloomberg rapporte que le secrétaire au Commerce américain, Howard Lutnick, a récemment mis en garde les hauts dirigeants d’ASML concernant la possibilité qu’une machine de lithographie par ultraviolets extrêmes (EUV) de l’entreprise ait atteint la Chine. Ces systèmes sont actuellement les seuls équipements capables de fabriquer les motifs de semi-conducteurs les plus avancés, et leur présence en Chine violerait les restrictions à l’exportation en vigueur depuis le premier mandat de Trump.

Les responsables américains affirment détenir des preuves qu’ASML a expédié des composants liés à l’EUV et des équipements de transport vers la Chine, bien qu’ils aient refusé de partager ces détails avec Bloomberg ou ASML. L’entreprise maintient qu’une telle machine n’existe pas en Chine et n’y a jamais existé. Le département du Commerce n’a pas répondu aux demandes d’informations concernant la possession de preuves d’un système EUV sur le sol chinois.

Bien que cela puisse sembler sans importance pour ceux qui sont à l’extérieur du secteur des semi-conducteurs, c’est crucial. ASML, une entreprise néerlandaise largement inconnue du grand public, occupe une position dominante dans le déploiement mondial des infrastructures d’intelligence artificielle, distincte de celle de Nvidia et des principaux fournisseurs de cloud. Elle fabrique l’équipement unique capable de réaliser la lithographie EUV, le processus nécessaire à l’impression des motifs de circuits microscopiques qui définissent les puces de pointe.

Chaque processeur haut de gamme produit par TSMC, le fondeur fournissant des puces à Nvidia et Apple, dépend des outils d’ASML. Ces systèmes ont nécessité deux décennies et des milliards de dollars de développement, et aucun autre fournisseur n’existe actuellement. Ce monopole a fait d’ASML l’entreprise publique européenne la plus précieuse, avec une capitalisation boursière oscillant autour de 700 milliards de dollars, portée par la demande croissante de puces d’IA.

La présence potentielle d’une machine EUV en Chine est significative car elle représenterait un échec majeur des contrôles à l’exportation américains conçus pour empêcher le renforcement des capacités d’IA avancées par les secteurs militaire et industriel de Pékin.

Il y a six semaines, avant ces rapports, j’ai discuté avec le PDG d’ASML, Christophe Fouquet, de la situation.

Fouquet a déclaré qu’ASML suit chaque machine qu’elle a expédiée, confirmant qu’elles sont soit utilisées par des clients surveillés, soit démantelées et retournées. Il a expliqué que l’entreprise a mis en place un pare-feu de sécurité interne il y a plusieurs années, séparant les employés ayant accès à la technologie EUV de ceux qui n’y ont pas accès. Le personnel chinois est intentionnellement exclu de cet accès. Il a souligné que la construction d’une machine EUV n’a été possible que parce que 80 % de la technologie provenait de connaissances antérieures accumulées sur plusieurs décennies, les 20 % restants – la génération de la lumière EUV elle-même – ayant pris vingt ans de plus à résoudre. Son argument était que le rétro-ingénierie est impossible sans possession préalable, et qu’aucune telle machine n’a jamais été en Chine.

La logique commerciale suggère également qu’ASML ne risquerait pas son permis d’exportation pour fournir secrètement un client chinois. L’entreprise vend des outils plus anciens de lithographie par ultraviolets profonds (DUV) à la Chine, une pratique qu’elle maintient depuis une décennie. Fouquet a décrit cela comme une décision stratégique visant à maintenir un écart générationnel, permettant des opérations commerciales sans créer de futurs concurrents. ASML s’attend à ce qu’environ 20 % de ses revenus de 2026 proviennent de ces ventes autorisées. Risquer l’interdiction de l’EUV pour une seule vente illégale mettrait en péril ces revenus et son statut de monopole industriel européen le plus précieux.

Ces points ne réfutent pas définitivement les allégations. Le gouvernement n’a pas encore publié ses preuves, et le jugement doit être suspendu jusqu’à ce que ces informations deviennent publiques.

Sous la direction de Lutnick, le département du Commerce a convenu fin l’an dernier d’investir jusqu’à 150 millions de dollars dans xLight, une startup développant une technologie de source lumineuse de nouvelle génération qui pourrait défier le monopole EUV d’ASML. Le PDG de xLight a précédemment décrit l’entreprise comme un partenaire futur d’ASML, créant du matériel à intégrer avec les systèmes existants plutôt qu’à les remplacer. Lorsque j’ai soulevé ce point avec Fouquet en mai, il a été poli mais peu convaincu, indiquant qu’ASML ne considère pas la technologie de xLight comme une menace pour sa position de leader.

Il reste clair si la pression de Lutnick sur ASML est liée à cet investissement. Il n’existe aucun lien public, et les deux questions peuvent être indépendantes. Cependant, il convient d’examiner si un fonctionnaire fédéral examinant un monopole tandis que son agence finance une startup visant à perturber la technologie centrale de ce monopole présente un conflit d’intérêts.

xLight n’est pas le seul concurrent en lithographie. Peter Thiel, qui entretient des liens de longue date avec le cercle politique de Trump, a soutenu Substrate, une startup poursuivant une technologie rivale de l’EUV avec des ambitions concurrentielles plus directes que xLight.

Comme l’a rapporté Bloomberg, un projet de loi bipartite actuellement au Congrès propose d’interdire tous les envois de lithographie par ultraviolets profonds (DUV) d’ASML vers la Chine, qui représentent environ 20 % des revenus attendus d’ASML pour 2026. Le projet de loi a passé une commission clé en avril, et l’administration Trump n’a pas encore pris de position officielle.

Photo ci-dessus : Christophe Fouquet, PDG d’ASML

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