Estados Unidos afirma que la herramienta clave de chips de ASML está en China; ASML lo disputa

Bloomberg informa que el secretario de Comercio de EE. UU., Howard Lutnick, advirtió recientemente a los altos ejecutivos de ASML sobre la posibilidad de que una de las máquinas de litografía de ultravioleta extrema (EUV) de la compañía haya llegado a China. Estos sistemas son actualmente el único equipo capaz de fabricar los patrones de semiconductores más avanzados, y su presencia en China violaría las restricciones de exportación vigentes desde la primera administración Trump.

Las autoridades estadounidenses afirman tener pruebas de que ASML envió componentes relacionados con EUV y equipos de transporte a China, aunque se han negado a compartir estos detalles con Bloomberg o ASML. La compañía sostiene que no existe tal máquina en China y nunca ha existido. El Departamento de Comercio no respondió a las consultas sobre si posee pruebas de un sistema EUV en territorio chino.

Aunque esto pueda parecer irrelevante para quienes están fuera del sector de los semiconductores, es fundamental. ASML, una empresa neerlandesa en gran medida desconocida para el público general, ocupa una posición dominante en la construcción global de infraestructura de inteligencia artificial, distinta de Nvidia y los principales proveedores de nube. Fabrica el único equipo capaz de realizar litografía EUV, el proceso necesario para imprimir los patrones de circuitos microscópicos que definen los chips de última generación.

Cada procesador de alta gama producido por TSMC, la fundición que suministra chips a Nvidia y Apple, depende de las herramientas de ASML. Estos sistemas requirieron dos décadas y miles de millones de dólares para desarrollarse, y actualmente no existe ningún proveedor alternativo. Este monopolio ha convertido a ASML en la empresa pública más valiosa de Europa, con una capitalización bursátil que ronda los 700 000 millones de dólares, impulsada por la demanda creciente de chips de IA.

La posible presencia de una máquina EUV en China es significativa porque representaría un importante fracaso de los controles de exportación estadounidenses diseñados para evitar que las capacidades avanzadas de IA fortalezcan los sectores militar e industrial de Pekín.

Hace seis semanas, antes de estos informes, hablé con el director ejecutivo de ASML, Christophe Fouquet, sobre la situación.

Fouquet afirmó que ASML rastrea cada máquina que ha enviado, confirmando que están en uso por clientes supervisados o han sido desmanteladas y devueltas. Explicó que la compañía estableció un cortafuegos de seguridad interno hace años, separando a los empleados con acceso a la tecnología EUV de aquellos sin él. El personal chino está intencionalmente excluido de este acceso. Enfatizó que construir una máquina EUV solo fue posible porque el 80 % de la tecnología provenía de conocimientos previos acumulados durante décadas, y que el 20 % restante, generar la propia luz EUV, tardó otros 20 años en resolverse. Su argumento era que la ingeniería inversa es imposible sin posesión previa, y que nunca ha habido tal máquina en China.

La lógica comercial también sugiere que ASML no arriesgaría su licencia de exportación para suministrar secretamente a un cliente chino. La compañía vende herramientas de ultravioleta profundo (DUV) más antiguas a China, una práctica que ha mantenido durante una década. Fouquet describió esto como una decisión estratégica para mantener una brecha generacional, permitiendo operaciones comerciales sin crear competidores futuros. ASML espera que aproximadamente el 20 % de sus ingresos de 2026 provengan de estas ventas permitidas. Arriesgar la prohibición de EUV por una única venta ilegal pondría en peligro estos ingresos y su estatus como el monopolio industrial más valioso de Europa.

Estos puntos no refutan definitivamente las acusaciones. El gobierno aún no ha publicado sus pruebas, y debería suspenderse el juicio hasta que esa información sea pública.

Bajo el liderazgo de Lutnick, el Departamento de Comercio acordó a finales del año pasado invertir hasta 150 millones de dólares en xLight, una startup que desarrolla tecnología de fuentes de luz de próxima generación que podría desafiar el monopolio EUV de ASML. El director ejecutivo de xLight describió previamente a la compañía como una futura socia de ASML, creando hardware para integrarse con los sistemas existentes en lugar de reemplazarlos. Cuando planteé esto a Fouquet en mayo, fue amable pero escéptico, lo que indica que ASML no considera que la tecnología de xLight sea una amenaza para su liderazgo.

Aún no está claro si la presión de Lutnick sobre ASML está relacionada con esta inversión. No hay ninguna conexión pública, y los dos temas pueden no estar relacionados. Sin embargo, vale la pena examinar si un funcionario federal que escruta un monopolio mientras su agencia financia una startup que busca interrumpir la tecnología central de ese monopolio tiene un conflicto de intereses.

xLight no es el único competidor en litografía. Peter Thiel, quien tiene vínculos de larga data con el círculo político de Trump, ha respaldado a Substrate, una startup que busca tecnología rival de EUV con ambiciones competitivas más directas que xLight.

Como informó Bloomberg, un proyecto de ley bipartidista actualmente en el Congreso propone prohibir todos los envíos de ASML de ultravioleta profundo (DUV) a China, que representan aproximadamente el 20 % de los ingresos previstos de la compañía para 2026. El proyecto de ley aprobó una comisión clave en abril, y la administración Trump aún no ha tomado una postura oficial.

Imagen superior: Christophe Fouquet, director ejecutivo de ASML