US Claims ASML’s Key Chip Tool Is in China, ASML Disputes → 米国はASMLの主要な半導体装置が中国にあると主張し、ASMLはこれを否定

Bloombergの報道によると、米国商務省のハワード・ルットニック長官は最近、ASMLの最高経営責任者らに対し、同社の極端な紫外線（EUV）リソグラフィ装置の1台が中国に到達している可能性について警告した。これらのシステムは現在、最も高度な半導体パターンを製造できる唯一の設備であり、トランプ政権第一期から施行されている輸出規制に違反することになる。

米国当局者は、ASMLがEUV関連部品および輸送設備を中国に出荷したという証拠を有していると主張しているが、これらの詳細をBloombergやASMLに共有することを拒否している。同社は、中国にそのような装置が存在せず、かつても存在しなかったと主張している。商務省は、中国領内にEUVシステムが存在する証拠を有しているかどうかについての問い合わせに対して回答しなかった。

これは半導体業界の外の人々には無関係に思えるかもしれないが、極めて重要である。オランダの企業であるASMLは一般にはほとんど知られていないが、Nvidiaや主要なクラウドプロバイダーとは異なる、グローバルなAIインフラ構築において支配的な地位を占めている。同社は、最先端のチップを定義する微細な回路パターンを印刷するために必要なEUVリソグラフィプロセスを実行できる唯一の設備を製造している。

NvidiaやApple向けのチップを供給するファウンドリであるTSMCが生産するすべてのハイエンドプロセッサは、ASMLの装置に依存している。これらのシステムを開発するには20年と数十億ドルがかかり、現在、代替サプライヤーは存在しない。この独占状態により、ASMLはAIチップへの需要急増を背景に、時価総額が約7000億ドルで推移する、欧州で最も価値のある上場企業となった。

中国にEUV装置が存在する可能性が重要なのは、それが北京の軍事および産業部門を強化することを防ぐために設計された米国の輸出管理の主要な失敗を意味するからである。

これらの報道以前、6週間前に、私はASMLのクリストフ・フーケCEOとこの状況について話した。

フーケ氏は、ASMLが出荷したすべての装置を追跡しており、それらが監視対象の顧客によって使用されているか、解体されて返却されたことを確認していると述べた。同社は数年前に内部セキュリティファイアウォールを確立し、EUV技術にアクセスできる従業員とそうでない従業員を分離したと説明した。中国のスタッフはこのアクセスから意図的に除外されている。彼は、EUV装置の構築が可能だったのは、技術の80%が数十年にわたる既存の知識に基づいていたためであり、残りの20%、すなわちEUV光の生成自体を解明するのにさらに20年がかかったと強調した。彼の主張は、既存の装置を所有せずにリバースエンジニアリングは不可能であり、そのような装置が中国に存在したことは一度もないというものであった。

商業的な論理も、ASMLが秘密裏に中国の顧客に供給するために輸出ライセンスを危険にさらすことはないことを示唆している。同社は中国に対して古い深紫外線（DUV）装置を販売しており、この慣行は10年間維持されている。フーケ氏は、これは将来の競合他社を生み出さずに事業運営を可能にするために世代間の格差を維持するという戦略的決定であると説明した。ASMLは、2026年の収益の約20%がこれらの許可された販売から生じることを期待している。単一の違法な販売のためにEUV禁止を危険にさらすことは、この収益および欧州で最も価値のある産業独占としての地位を脅かすことになる。

これらの点は、告発を決定論的に否定するものではない。政府はまだ証拠を公開しておらず、その情報が公開されるまで判断は保留すべきである。

ルットニック氏のリーダーシップの下、商務省は昨年遅く、ASMLのEUV独占に挑戦する可能性のある次世代光源技術を開発しているスタートアップ、xLightへの最大1億5000万ドルの投資に合意した。xLightのCEOは以前、同社をASMLの将来のパートナーとして位置づけ、既存のシステムを置き換えるのではなく統合するハードウェアを作成すると説明していた。私が5月にこれをフーケ氏に提起した際、彼は丁寧ではあったが納得しておらず、ASMLはxLightの技術を自らのリーダーシップに対する脅威と見なしていないことを示唆した。

ルットニック氏のASMLへの圧力がこの投資に関連しているかどうかは不明である。公的な関連性はなく、この2つの問題は無関係である可能性がある。しかし、自らの機関がその独占の核心技術を混乱させることを目的としたスタートアップに資金を提供しながら、独占を審査している連邦当局者に利害相反があるかどうかを検討する価値はある。

xLightはリソグラフィにおける唯一の競合他社ではない。トランプ氏の政治サークルと長年の関係を持つピーター・ティールは、xLightよりもより直接的な競争野心を持つEUV対抗技術 pursuingするスタートアップ、Substrateを支援している。

Bloombergの報道によれば、現在議会にある両党からの法案は、同社の予想される2026年の収益の約20%を占めるASMLのすべての深紫外線（DUV）出荷を禁止することを提案している。この法案は4月に重要な委員会の承認を得たが、トランプ政権はまだ公式な立場を取っていない。

上記写真：ASML CEO クリストフ・フーケ