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EUA alegam que a principal ferramenta de chips da ASML está na China; a ASML contesta

EUA alegam que a principal ferramenta de chips da ASML está na China; a ASML contesta

8 de Setembro de 2026
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EUA alegam que a principal ferramenta de chips da ASML está na China; a ASML contesta

O Bloomberg relata que o Secretário de Comércio dos EUA, Howard Lutnick, alertou recentemente os altos executivos da ASML sobre a possibilidade de uma de suas máquinas de litografia por ultravioleta extremo (EUV) ter chegado à China. Esses sistemas são atualmente os únicos equipamentos capazes de fabricar os padrões de semicondutores mais avançados, e sua presença na China violaria as restrições de exportação impostas desde o primeiro governo Trump.

Funcionários dos EUA afirmam ter provas de que a ASML enviou componentes relacionados à EUV e equipamentos de transporte para a China, embora tenham se recusado a compartilhar esses detalhes com o Bloomberg ou com a ASML. A empresa mantém que nenhuma máquina dessas existe na China e nunca existiu. O Departamento de Comércio não respondeu às perguntas sobre se possui provas da existência de um sistema EUV em solo chinês.

Embora isso possa parecer irrelevante para aqueles fora do setor de semicondutores, é crítico. A ASML, uma empresa holandesa amplamente desconhecida pelo grande público, detém uma posição dominante na construção global de infraestrutura de IA, distinta da Nvidia e dos principais provedores de nuvem. Ela fabrica o único equipamento capaz de realizar a litografia EUV, o processo necessário para imprimir os padrões de circuitos microscópicos que definem os chips de ponta.

Todo processador de alta gama produzido pela TSMC, a fundição que fornece chips para a Nvidia e a Apple, depende das ferramentas da ASML. Esses sistemas exigiram duas décadas e bilhões de dólares para serem desenvolvidos, e nenhum fornecedor alternativo existe atualmente. Este monopólio tornou a ASML a empresa de capital aberto mais valiosa da Europa, com uma capitalização de mercado em torno de US$ 700 bilhões, impulsionada pela demanda crescente por chips de IA.

A possível presença de uma máquina EUV na China é significativa porque representaria uma grande falha dos controles de exportação dos EUA, projetados para impedir que capacidades avançadas de IA fortalecessem os setores militar e industrial de Pequim.

Seis semanas atrás, antes desses relatórios, conversei com o CEO da ASML, Christophe Fouquet, sobre a situação.

Fouquet afirmou que a ASML rastreia todas as máquinas que enviou, confirmando que elas estão sendo usadas por clientes monitorados ou foram desmontadas e devolvidas. Ele explicou que a empresa estabeleceu um firewall de segurança interno há anos, separando os funcionários com acesso à tecnologia EUV daqueles sem acesso. O pessoal chinês é intencionalmente excluído desse acesso. Ele enfatizou que a construção de uma máquina EUV só foi possível porque 80% da tecnologia derivava de décadas de conhecimento prévio, enquanto os 20% restantes — a geração da própria luz EUV — levaram mais 20 anos para serem resolvidos. Seu argumento era que a engenharia reversa é impossível sem posse prévia, e nenhuma máquina dessas já esteve na China.

A lógica comercial também sugere que a ASML não arriscaria sua licença de exportação para fornecer secretamente a um cliente chinês. A empresa vende ferramentas mais antigas de ultravioleta profundo (DUV) para a China, uma prática que mantém há uma década. Fouquet descreveu isso como uma decisão estratégica para manter uma lacuna geracional, permitindo operações comerciais sem criar futuros concorrentes. A ASML espera que cerca de 20% de sua receita de 2026 venha dessas vendas permitidas. Arriscar a proibição da EUV por uma única venda ilegal colocaria em risco essa receita e seu status de monopólio industrial mais valioso da Europa.

Esses pontos não refutam definitivamente as alegações. O governo ainda não divulgou suas provas, e o julgamento deve ser adiado até que essas informações se tornem públicas.

Sob a liderança de Lutnick, o Departamento de Comércio concordou no final do ano passado a investir até US$ 150 milhões na xLight, uma startup desenvolvendo tecnologia de fonte de luz de próxima geração que poderia desafiar o monopólio EUV da ASML. O CEO da xLight descreveu anteriormente a empresa como uma futura parceira da ASML, criando hardware para integrar-se aos sistemas existentes em vez de substituí-los. Quando levantei isso com Fouquet em maio, ele foi educado, mas não convencido, indicando que a ASML não vê a tecnologia da xLight como uma ameaça à sua liderança.

Continua pouco claro se a pressão de Lutnick sobre a ASML está relacionada a esse investimento. Não há conexão pública, e os dois assuntos podem ser não relacionados. No entanto, vale examinar se um funcionário federal que fiscaliza um monopólio enquanto sua agência financia uma startup que visa interromper a tecnologia central desse monopólio tem um conflito de interesses.

A xLight não é o único concorrente em litografia. Peter Thiel, que tem laços de longa data com o círculo político de Trump, apoiou a Substrate, uma startup que busca tecnologia rival à EUV com ambições competitivas mais diretas do que a xLight.

Como o Bloomberg relatou, um projeto de lei bipartidário atualmente no Congresso propõe proibir todas as remessas de ultravioleta profundo (DUV) da ASML para a China, que representam cerca de 20% da receita esperada da empresa em 2026. O projeto passou por uma comissão-chave em abril, e o governo Trump ainda não assumiu uma posição oficial.

Acima: CEO da ASML, Christophe Fouquet

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