ASML首席执行官对公司在竞争中的市场地位充满信心

每当你与人工智能互动时，你都在某种程度上——虽微小却至关重要——依赖着一家拥有44,000名员工、成立42年的荷兰公司，该公司每年投入45亿欧元以推动技术进步。

总部位于荷兰的ASML公司，生产着制造AI芯片的设备。更确切地说，它制造的是全球唯一能够将微观图案印制在硅片上的设备，这些硅片构成了最先进的半导体——这一工艺被称为极紫外光刻（EUV）。 这些设备体积约如一辆校车，组装需时数月，涉及数百家供应商，每台造价在2亿美元至4亿美元以上不等（视型号而定）——如此高昂的标价，甚至让ASML最大的客户有时也会犹豫不决。

这种垄断地位使ASML成为欧洲市值最高的公司，其市值超过5300亿美元。随着美国四大科技巨头——微软、Meta、亚马逊和谷歌——仅在今年就承诺投入超过6000亿美元用于人工智能基础设施建设，对ASML设备的 demand 急剧攀升。该公司曾公开表示，未来数年全球芯片供应将持续供不应求。

这种强劲的需求也使ASML成为被瞄准的目标。由彼得·蒂尔门生创立的旧金山初创公司Substrate，凭借其宣称能够制造竞争性光刻机的承诺，已筹集超过1亿美元资金，估值突破10亿美元。此外，有报道称中国境内的前ASML工程师已部分逆向工程了该技术，这一进展具有深远的地缘政治影响。

克里斯托夫·福凯（Christophe Fouquet）在ASML任职十余年后于2024年出任首席执行官，周二上午，他在出席米尔肯研究所全球会议之前，于比佛利山庄酒店的屋顶露台与本刊编辑进行了会面。身着蓝色西装和白色衬衫的他显得十分从容——即使话题转向潜在竞争对手时也是如此。

本次采访内容已略作编辑，以确保篇幅适中且表述清晰。

TC：您预见到人工智能的这波热潮了吗？

CF：没有，完全没有。我们一直勤勉工作，但并未预见到这一特定浪潮的到来。这一转变是从一个理论概念——人们期待它终将实现——演变为ChatGPT，后者首次有力地展示了AI的潜力。如今，我们视AI为下一场重大革命，它将影响工业和社会。 我预见到这一点了吗？没有。即便每天都身处其中，我们有时醒来时仍需确认眼前发生的一切是否真实。

大家最关心的问题是：供应链能否跟上需求？这可能吗？

需求如此庞大，以至于整体市场在相当长一段时间内都将受制于供应。 目前，最大的瓶颈似乎在于芯片制造。作为设备供应商，我们与客户的计划保持同步，迄今为止已基本跟上了步伐。然而，我们意识到必须加速并扩大整个供应链和生产能力。如果您与超大规模云服务提供商交谈，我相信他们会证实，在未来两、三甚至五年内，他们都无法获得足够的芯片。

台积电最近因声称贵公司的最新设备成本过高而引发热议。您如何回应这一观点？

EUV系统确实比低数值孔径（NA）系统价格更高，但使用该设备生产特定先进工艺层时，每片晶圆的成本反而更低。我们能够实现20%至30%的成本降低。

[编者注：福凯在此提及的两台设备均为EUV光刻机，采用相同的核心技术。NA代表数值孔径，用于衡量设备将光线聚焦到芯片上的精细程度。 低数值孔径（Low-NA）EUV代表当前一代技术，而高数值孔径（High-NA）EUV则是ASML的最新一代产品，虽能刻画更精细的图案，但单台价格高达3.5亿美元或以上。福凯的论点是：尽管初期成本更高，但新设备制造芯片的成本反而更低。]

我经常被问到，这种过渡会在本月、下月还是后下月发生。 我的标准回答是：确切的时间点并不关键，因为我们设计高数值孔径技术是为了满足未来10到20年的需求。如果你回顾2016年或2017年的媒体报道，会发现类似的评论——当时低数值孔径EUV也被认为非常昂贵。我们都知道后来发生了什么。高数值孔径EUV也将遵循同样的轨迹。

一家名为Substrate的初创公司，在彼得·蒂尔的支持下，声称能够制造出具有竞争力的光刻机。您对此有何看法？

立志研发与真正实现之间存在天壤之别。光刻技术面临诸多挑战。生成图像仅仅是开端；随后必须以低成本、高速度和纳米级精度实现该图像的大规模量产。我常说，ASML之所以能开发出EUV光刻机，是因为80%的必要技术早已存在，这些技术建立在数十年来积累的知识和产品基础上。 我们需要解决一个核心难题——生成极紫外光——仅此一项就耗费了20年。从零开始无疑是巨大的挑战。我看到过许多宣称和几张图片。然而，我们早在30年前就捕捉到了第一张极紫外图像，但仍需经过20年的艰苦努力，才能将其转化为可行的制造系统。

那么，关于xLight呢？这家部分由美国政府资助的激光初创公司正寻求与您合作？

xLight专注于我们EUV光刻机中的单一组件：光源。我们现有的光源在未来许多年里都可以进行扩展和升级。 xLight正在开发的新光源仍需经过建造和验证。关键问题在于，与我们当前的技术相比，它能否在性能或成本上带来优势。我认为这一结论尚待定论。我们正与他们合作以协助验证其技术——我们视此为自身责任的一部分。尽管如此，这仍是一段漫长的征程。

此外还有报道称，在中国的前ASML工程师已对贵公司的设备进行了逆向工程。

要逆向工程任何设备，首先必须获得对设备的物理接触。中国境内没有EUV设备——我们从未向那里发货。 我们清楚每一台已发货设备的去向：要么正在客户处正常运行（我们对此有追踪记录），要么已被拆解并退回给我们。所谓我们的某套系统在中国境内的说法是不正确的。此外，由于我们的EUV技术从未出口至中国，因此我们也没有任何接受过EUV系统培训的员工在中国。

早在出口限制实施之初，我们就在公司内部建立了严格的隔离机制，将获准接触EUV技术、文件及培训的人员与未获授权人员完全区分开来。我们在中国的团队属于后者。现有证据表明，相关进展微乎其微，甚至根本没有。由于获取这项技术被视为至关重要，因此有些人难以接受这一事实。

关于更广泛的出口管制问题——黄仁勋昨晚在此主张，企业应面向全球销售，因为企业收入的增长将转化为母国更多的税收。他还表示，关键在于将最先进的技术保留在本土。您同意这一观点吗？

我认为他完全正确。他补充的一点——我相信这也是英伟达成功实践的策略——是可以通过在销售产品时保持代际差距来维持技术领先。英伟达销售的产品比其最新产品落后几代，这使其既能维持持续的商业往来，又不会将强大的竞争优势拱手让给那些无法获得最新技术国家的竞争对手。我们认为这一原则也应适用于我们的产品。 如今，我们在出口管制允许的范围内向中国供应工具，但这其实是我们在2015年就已推出的产品。将詹森的理念应用到我们的情境中，英伟达目前保持着大约八代的技术差距。我们正在考虑将这一差距缩小到两到三代。这其中存在合理化的空间——即在完全停止业务（从而放弃重大机遇）与强烈激励他人与你竞争之间，找到恰当的平衡点。

您如何评价目前与现政府就这些事项的讨论现状？

双方正在进行建设性对话，这一点至关重要。我相信对方确实理解商业需求，但挑战依然在于如何在各方声音和利益之间取得恰当的平衡。对话仍在进行中，我们对此非常重视。我曾多次造访华盛顿。至少，对话正在进行。不过，这是一个极其复杂的问题。

您似乎并不特别担心有人会找到捷径来复制贵公司的技术。

人们渴望尖端技术，却往往忽视了创造这些技术所付出的代价。这需要多年的努力——不仅来自ASML，也包括我们的供应商。这涉及不同团队解决极其困难的问题，随后由一家公司整合所有成果，并利用数十年的光刻专业知识来创建制造系统。这绝非易事。而且我相信，这段历史和复杂性也是我们最强大的保障。这恰恰反映了构建这种能力所需的巨大努力。