ASMLのCEO、激しい競争の中でも市場での地位に自信を示す

人工知能を利用するたびに、私たちは、ささやかではあるが重要な形で、従業員4万4000人を擁し、技術の進歩のために年間45億ユーロを投資している、創業42年のオランダ企業に支えられているのです。

オランダに本拠を置くASMLは、AIを可能にするチップを製造する装置を製造しています。より正確に言えば、同社は最先端の半導体を構成するシリコンウェハーに微細なパターンを形成できる、世界で唯一の装置を製造しています。このプロセスは、極端紫外線リソグラフィ（EUV）として知られています。 これらの装置はスクールバスほどの大きさがあり、組み立てには数ヶ月を要し、数百社のサプライヤーが関与する。モデルによって1台あたり2億ドルから4億ドル以上と、その価格の高さゆえに、ASMLの最大手顧客でさえ時として購入を躊躇することもある。

この独占的地位により、ASMLは時価総額5,300億ドルを超える欧州で最も価値のある企業となった。米国の大手ハイテク企業4社（マイクロソフト、メタ、アマゾン、グーグル）が今年だけでAIインフラへの支出に6,000億ドル以上を投じる中、ASMLの装置に対する需要は急増している。同社は、今後数年にわたり世界の半導体供給が需要に追いつかないと公に述べている。

この激しい需要は、ASMLを標的にもしている。ピーター・ティールの門下生が設立したサンフランシスコのスタートアップ企業サブストレート（Substrate）は、競合するリソグラフィ装置を製造できると主張し、1億ドル以上を調達して10億ドルを超える企業価値を達成した。また別の報道によると、中国にいる元ASMLのエンジニアらが同技術の一部をリバースエンジニアリングしたとのことで、これは地政学的に極めて重大な意味を持つ展開である。

ASMLに10年以上在籍した後、2024年にCEOに就任したクリストフ・フーケ氏は、火曜日の朝、ミルケン・インスティテュート・グローバル・カンファレンスへの登壇に先立ち、ビバリーヒルズのホテルの屋上デッキで本誌編集者と面会した。青いスーツに白いシャツ姿の彼は、話題が潜在的なライバル企業に移っても、リラックスした様子だった。

本インタビューは、長さと明瞭さを考慮して若干編集されています。

TC：AIブームを予見していましたか？

CF：いいえ、全く予想していませんでした。私たちは懸命に働いていましたが、この特定の波が来るという先見の明は持ち合わせていませんでした。変化は、理論上の概念——いずれ実現すると人々が期待していたもの——から、AIの可能性を初めて説得力を持って示したChatGPTへと移行しました。今日、私たちはAIを、産業と社会の両方に影響を与える次の大きな革命と捉えています。 予見していたか？いいえ。日々その世界に浸っている私たちでさえ、目を覚まして、今まさに展開していることが現実であることを確認しなければならない時があるほどです。

誰もが抱く最大の疑問は、サプライチェーンが需要に追いつけるかどうかだ。それは可能だろうか？

需要は極めて膨大であり、当面の間、市場全体が供給の制約を受けることになるでしょう。 現在、最も大きなボトルネックは半導体製造にあるようです。装置サプライヤーとして、私たちは顧客の計画に歩調を合わせ、これまでは比較的うまく対応できてきました。しかし、サプライチェーン全体と生産能力の拡大・加速が必要であることは認識しています。ハイパースケールクラウドプロバイダーに話を聞けば、今後2年、3年、あるいは5年間は十分なチップを確保できないだろうと認めるはずです。

TSMCは最近、御社の最新装置が高すぎると発言し、話題になりました。これに対し、どのように対応されますか？

EUVシステムは低NAシステムよりも価格が高くなりますが、特定の先進プロセス層において、この装置を使用して製造するウェハあたりのコストは低くなります。20％から30％のコスト削減を実現できます。

[編集部注：ここでフーケ氏が言及している両方の装置はEUV装置であり、同じコア技術を共有している。NAは開口数（Numerical Aperture）の略で、装置がチップ上に光をどれだけ微細に集光できるかを示す指標である。 低NA EUVは現行世代を表し、高NA EUVはASMLの最新世代であり、さらに微細なパターンの形成が可能ですが、1台あたり3億5000万ドル以上の価格がつきます。フーケ氏の主張は、初期コストは高いものの、新しい装置の方がチップをより低コストで製造できるというものです。]

「移行は今月か、来月か、それとも再来月か」とよく尋ねられます。 私の典型的な回答は、正確なタイミングはそれほど重要ではない、というものです。なぜなら、我々は今後10年から20年を見据えて高NA技術を設計したからです。2016年や2017年の報道を見返せば、同様のコメントが見つかるでしょう——当時、低NA EUVは非常に高価だと考えられていました。その後どうなったかは周知の通りです。高NAについても、同じ展開になるでしょう。

ピーター・ティール氏が支援する「Substrate」というスタートアップ企業が、競合するリソグラフィ装置を製造できると主張していますが、これについてどうお考えですか？

「開発を目指す」ことと「実際に達成する」ことには天と地ほどの差があります。リソグラフィには数多くの課題が存在します。画像を作成するのは始まりに過ぎず、その後、その画像を低コストかつ高速で、ナノメートルレベルの精度をもって大量生産しなければなりません。私はよくこう言います。「ASMLがEUV装置を開発できたのは、必要な技術の80％が既に存在し、数十年にわたって蓄積された知見や製品の上に築かれていたからに他なりません」と。 我々が解決しなければならなかった主要な課題は、EUV光の生成という一点に尽きますが、それだけでも20年を要しました。ゼロからのスタートは、計り知れないほどの挑戦です。様々な主張や数枚の画像を目にしてきましたが、我々は30年前に最初のEUV画像を捉えたものの、それを実用的な製造システムへと昇華させるには、さらに20年にわたる集中的な取り組みが必要でした。

米国政府から一部資金提供を受けているレーザースタートアップ企業「xLight」は、御社との協力を模索していますが、これについてはどうお考えですか？

xLightは、当社のEUV装置の構成要素の一つである「光源」に注力しています。当社の既存の光源は、今後何年にもわたって拡張・スケールアップが可能です。 xLightが開発しているのは、まだ製造と検証が必要な新しい光源です。重要な点は、それが当社の現行技術と比較して、性能面やコスト面でメリットをもたらすかどうかです。その結論はまだ出ていないと私は考えています。私たちは彼らの技術実証を支援するために協力していますが、それは私たちの責任の一部だと捉えています。とはいえ、道のりは依然として非常に長いものです。

また、中国にいる元ASMLのエンジニアたちが、御社の装置をリバースエンジニアリングしたという報道もあります。

何かをリバースエンジニアリングするには、まず装置への物理的なアクセスが必要です。中国にはEUV装置は存在しません。当社はこれまで一度も中国へ装置を出荷したことはありません。 当社が出荷したすべての装置の所在は把握しています。それらは、当社が追跡管理している顧客先で稼働中か、あるいは解体されて当社に返却されたかのいずれかです。当社のシステムが中国にあるという見解は誤りです。さらに、当社のEUV技術は中国へ輸出されたことが一度もないため、中国にはEUVシステムの訓練を受けた従業員もいません。

輸出規制が導入された当初の段階で、当社は社内でEUV技術、文書、およびトレーニングへのアクセス権限を持つ従業員と、そうでない従業員との間に完全な内部分離を確立しました。中国にいる当社のチームは、その境界線の後者に位置しています。証拠によれば、進展はあったとしてもごくわずかです。この技術へのアクセスが非常に重要視されているため、一部の人々にはこの事実を受け入れがたいものかもしれません。

輸出規制についてより広く言えば――昨夜、ジェンセン・フアン氏がここに来て、企業は世界中で販売すべきであり、企業の収益増加は本国への税収増につながる、と主張していました。また、鍵となるのは、最先端かつ最高の技術を自国に近い場所に留めておくことだと述べました。この点について、ご同意されますか？

彼の主張は完全に正しいと思います。彼が付け加えた点——そしてこれがNVIDIAが成功裏に実践してきたことだと私は信じています——は、販売する製品に世代差を維持することで、技術的優位性を保てるということです。NVIDIAは最新製品より数世代前の製品を販売しており、それによって継続的な商取引を維持しつつ、最新技術が販売されていない国々に強力な競争優位性を与えないようにバランスを取っています。私たちは、同じ原則が自社の製品にも適用されるべきだと考えています。 現在、我々は輸出規制の範囲内で中国にツールを供給していますが、それは2015年に初めて導入したツールです。ジェンセン氏の哲学を我々の状況に当てはめると、NVIDIAは約8世代のギャップを保って事業を展開しています。我々は2～3世代のギャップを検討しています。合理化の余地はあります。つまり、事業を完全に停止して大きな機会を逃すこと、あるいは他社に競合するよう強く促すことの間で、適切なバランスを見出すことです。

これらの問題に関する現政権との協議の現状を、どのように評価されていますか？

建設的な対話が行われており、これは極めて重要です。ビジネス上の要件については真摯な理解があると思いますが、課題は、関与する様々な声や利害関係の間で適切なバランスを見出すことにあります。対話は継続しており、我々はそれを重視しています。私はワシントンを何度も訪れました。少なくとも、対話は行われています。しかし、これは極めて複雑な問題です。

御社の技術を模倣するための近道が誰かに見つかることについて、あまり懸念していないように見えますが。

人々は最先端技術を求めますが、それを生み出すために何が必要だったかを見落としがちです。これには長年の努力が必要でした。ASMLだけでなく、サプライヤーとの協力も不可欠でした。極めて困難な問題を解決するために多様な人材が関わり、その後、1つの企業がそれらを統合し、数十年にわたるリソグラフィの専門知識を活用して製造システムを構築したのです。これは決して単純なことではありません。そして、その歴史と複雑さこそが、私たちの最も強力な防護策でもあると信じています。それは単に、この能力を構築するために必要な膨大な努力を反映しているに過ぎません。